ٹینٹلم کروسیبل پروسیسنگ پروڈکشن کے معیارات

گریڈ:R05200,R05400,Ta1,Ta10W,Ta2.5W

معیاری: ASTM B708-05

طہارت: 99.95 سے زیادہ یا اس کے برابر

کثافت: 16.6g/cm3 سے زیادہ یا اس کے برابر

پگھلنے کا مقام: 2996 ڈگری

نقطہ ابلتا: 5425 ڈگری

ترسیل کی حالت: فورجنگ پروسیسنگ حالت

سائز کی حد: ڈرائنگ پروسیسنگ کے مطابق

پروسیسنگ کی قسم: ختم کرنا

رواداری: 0.02

پیداواری عمل: خام مال - الیکٹران بیم ویکیوم پگھلنا - جعل سازی - ٹرننگ / ملنگ / CNC مشینی مراکز
ٹینٹلم میٹریل کا استعمال: ٹینٹلم مشینی پرزوں میں بہترین خصوصیات کی ایک سیریز ہوتی ہے جیسے ہائی پگھلنے کا نقطہ، کم بخارات کا دباؤ، اچھی گھنٹی مشینی کارکردگی، اعلی کیمیائی استحکام، مائع دھات کے سنکنرن کے خلاف اعلی مزاحمت، اور سطح کی آکسائیڈ فلم کا ہائی ڈائی الیکٹرک مستقل۔ لہذا، ٹینٹلم الیکٹرانکس، دھات کاری، سٹیل، کیمیائی صنعت، سیمنٹڈ کاربائیڈ، ایٹمی توانائی، سپر کنڈکٹنگ ٹیکنالوجی، آٹوموٹو الیکٹرانکس، سائنسی تحقیق اور دیگر ہائی ٹیک شعبوں میں اہم ایپلی کیشنز رکھتا ہے۔
ٹینٹلم ایک دھاتی عنصر ہے، جوہری نمبر 73، کیمیائی علامت Ta، سٹیل کی سرمئی دھات کے لیے monomers سے مماثل عنصر، بہت زیادہ سنکنرن مزاحمت رکھتا ہے، سرد اور گرم دونوں حالات میں، ہائیڈروکلورک ایسڈ، مرتکز نائٹرک ایسڈ اور " aqua regia" رد عمل نہیں ہیں۔ ٹینٹلم بنیادی طور پر ٹینٹالائٹ میں پایا جاتا ہے، نیوبیم کے ساتھ سمبیوٹک۔ ٹینٹلم کی سختی اعتدال پسند اور لچکدار ہے، اور اسے پتلی ورق کے باریک تنت میں کھینچا جا سکتا ہے۔ اس کا تھرمل توسیع کا گتانک بہت چھوٹا ہے۔ ٹینٹلم میں بہت کیمیائی خصوصیات ہیں اور یہ سنکنرن کے خلاف انتہائی مزاحم ہے۔ evaporative برتن وغیرہ بنانے کے لیے استعمال کیا جا سکتا ہے، الیکٹرانک ٹیوبوں، rectifiers، electrolytic capacitors کے الیکٹروڈ بھی بنائے جا سکتے ہیں۔ طبی طور پر اس کا استعمال خراب ٹشوز کو ٹھیک کرنے کے لیے پتلی سلائسس یا باریک تاروں کو بنانے کے لیے کیا جاتا ہے۔ اگرچہ ٹینٹلم سنکنرن کے خلاف انتہائی مزاحم ہے، لیکن اس کی سنکنرن مزاحمت سطح پر ٹینٹلم پینٹ آکسائیڈ (TaO) کی ایک مستحکم حفاظتی فلم کی تخلیق کی وجہ سے ہے۔